
Enel-Sharp: uniti per il fotovoltaico
16 Maggio 2008
È stata ufficializzata oggi a Roma l’intesa tra Enel e Sharp sul fotovoltaico. L’azienda energetica italiana e la multinazionale giapponese hanno siglato un’intesa che prevede due punti essenziali. Il primo è l’installazione entro il 2011 di nuovi campi fotovoltaici per un totale di 161 MW in grado di produrre l’energia di cui hanno bisogno oltre 81.500 famiglie.
Il secondo punto riguarda invece la realizzazione in Italia di un impianto industriale per la produzione di pannelli fotovoltaici basati sulla tecnologia di Sharp, un avanguardistico film sottile a tripla giunzione. Rispetto ai moduli tradizionali in silicio cristallino si tratta di un procedimento che consente un minore utilizzo di silicio, con evidenti risparmi economici, garantendo però prestazioni di efficienza simili a quelle dei moduli tradizionali.
“E’ un’alleanza che consideriamo abbastanza unica a livello mondiale”, ha commentato Francesco Starace, direttore Divisione Mercato di Enel nel corso della presentazione: “Due società che definiscono una strategia comune, con Sharp che entra con noi nella produzione di energia elettrica e noi che entriamo nella produzione di pannelli fotovoltaici”.
La scelta di collaborare nasce infatti anche dalla necessità di sopperire a un inaspettato freno alla crescita del fotovoltaico.
I dettagli dei due progetti sono ancora tutti da definire, ma l’idea di massima è quella di distribuire i campi fotovoltaici sul territorio, senza concentrarli in una zona precisa, mentre resta ancora da verificare dove far sorgere lo stabilimento di produzione dei pannelli. Al momento l’unica certezza al riguardo sembra essere la scelta di una località costiera, dove è possibile sfruttare i servizi portuali. “La produzione - ha sottolineato infatti Starace - non sarà esclusivamente destinata verso l’interno ma verrà indirizzata anche alla crescita del fotovoltaico negli altri paesi del Mediterraneo”.




